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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	溅射参数对Fe-Si化合物的相形成及结构的影响显示文摘对直流磁控溅射方法制备Fe-Si化合物的工艺过程进行了研究.首先通过改变溅射气压,溅射功率和Ar气流量,在Si(100)衬底上沉积约100 nm纯金属Fe膜,随后在真空退火炉中800℃长时间退火形成Fe-Si化合物.由X射线衍射(XRD)对所形成的Fe-Si化合物的物相和晶体结构进行分析,给出了一组最优化的溅射工艺参数:溅射Ar气压1.5 Pa,溅射功率100 W,溅射Ar气流量20 SCCM.	张晋敏谢泉梁艳曾武贤	2008	四川师范大学学报(自然科学版)2008，31，5：	4

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