Simulations of the Dependence of Gas Physical Parameters on Deposition Variables during HFCVD Diamond Films

查看全文 作　　者：Aiying [1,2]WANG;Kwangryeol [1]Lee;Chao [3]SUN;Lishi [3]WEN

机构地区：[1]Future Technology Research Division, Korea Institute of Science and Technology, P.O.Box 131, Cheongryang,Seoul, 130-650, Korea;[2]Plasma Lab, J&L Tech. Co. Ltd, Siheung city, Kyunggi-do, 2185-7, Korea;[3]Department of Surface Engineering of Materials, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences,Shenyang 110016, China

出　　处：《Journal of Materials Science & Technology》索引2006年第22卷第5期,共6页

基　　金：This work was partially supported by the National Natural Science Foundation of China (NSFC) under Contract No. 59292800 ;the Science and Technology Committee of Liaoning Province. 摘　　要：在钻石拍摄的热细丝化学药品蒸汽免职(HFCVD ) 的生长期间,在 2-D 的数字模拟数学模型被雇用在煤气的物理参数上调查各种各样的免职参数的影响包括温度,气体的速度和卷密度。甚至在优化免职参数的情况中,煤气的参数的空间分布是异构的,这被发现首先对热阻塞到期来自热细丝和低温实验法的泵效果从冷反应堆墙产生。卷密度的分发与热圆流动的现象同意了很好,到获得高生长的关键障碍之一在 HFCVD 评价进程。在有高温度或反应堆墙的断热的边界状况的等温的边界的优点,然而, thermalround 流动深刻地被减少并且作为后果,煤气的物理参数的一致性更加被改进,由试验性的电影生长识别了。 关键词：金刚石膜热丝化学气相沉积气体物理参数沉积作用数值模拟

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