LaB_6场发射尖锥的场发射特性研究(英文)

查看全文 作　　者：[1]祁康成;[1]林祖伦;[1]曹贵川;[1]成建波;Daniel den [1]Engelsen

机构地区：[1]电子科技大学光电信息学院,成都610054

出　　处：《强激光与粒子束》索引2007年第19卷第3期,共4页

基　　金：the Youth Science and Technology Foundation of University of Electronic Science and Technology of China(YF020503) 摘　　要：报道了六硼化镧(LaB6)场发射尖锥的场发射性能。采用电化学腐蚀方法制作了LaB6场发射尖锥,并在10^-2~10^-7Pa的宽真空度范围内对单尖LaB6场发射二极管的发射特性进行了测试。发现残余气体电离产生的离子轰击对LaB6场发射阴极尖锥表面起到了离子清洗作用,使LaB6场发射尖锥在低真空工作后发射电流大幅度提高。离子轰击是一种适用于LaB6场发射阴极的激活处理方法。 关键词：场发射六硼化镧(LaB6) 尖锥离子轰击激活

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