改进缺陷,套刻和聚焦性能的第五世代浸没式曝光系统(英文)

查看全文 作　　者：Jan [1]Mulkens;Bob [1]Streefkerk;Hans [1]Jasper;Jos de [1]Klerk;Fred de [1]Jong;Leon [1]Levasier;Martijn [1]Leenders

机构地区：[1]ASML Netherlands B.V.De Run 6501,5504 DR Veldhoven,The Netherlands

出　　处：《电子工业专用设备》索引2008年第37卷第3期,共7页

摘　　要：论述了第五世代双扫描平台浸液式扫描曝光机的性能和进展。表明了在高速扫描状态下有生产价值的套刻和聚焦性能的实现。浸液式设备更多的关键部分与缺陷有关,而且该机的改进是通过有生产价值的缺陷水平方面来体现的。为了保持这种缺陷水平的改进效果,需要在圆片应用中进行专门稳定的测量。特加是边缘空泡除去(EBR)设计和圆片斜面良流线性是很重要的。 关键词：浸液式扫描曝光机套刻和聚焦性能缺陷改进污染粒子控制

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