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本底真空度对PVD/TiN涂层组织和性能的影响

查看全文 作  者:[1]魏仕勇;[1]付青峰;[1]曹美蓉;[1]万珍珍 高影响力作者 机构地区:[1]江西省科学院铜钨新材料重点实验室,江西南昌330029高影响力机构 出  处:《江西科学》索引2013年第31卷第6期,共3页高影响力期刊 基  金:江西省科学院国家预研项目(2011-YGY-02);江西省科学院惠普项目(2013-XTPH2-22) 摘  要:采用物理气相沉积(PVD) TiN涂层的表面处理技术,对合金结构钢进行表面强化处理.分析了不同本底真空度下TiN涂层的硬度、膜基结合力以及涂层颗粒尺寸等.结果表明,本底真空度在7.8×10-3~ 10.0×10-2 Pa范围内,本底真空度与涂层颗粒尺寸成反比,与硬度和膜基结合力成正比.当其为7.8×10-3 Pa时进行30-40 min沉积的涂层,涂层硬度可达到1 878.63 HVo.1,结合力达到7.86 N. 关 键 词:本底真空度 PVD TIN涂层 42CRMO钢
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