大面积均匀纳米金刚石薄膜制备研究

查看全文 作　　者：[1]龚辉;[1]范正修;[2]姜辛;Klages [2]CP

机构地区：[1]中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800;[2]Fraunhofer-ISTofFilmandSurfaceEngineering

出　　处：《光学学报》索引2002年第22卷第6期,共5页

基　　金：中国科学院和德国夫琅和费研究院交流项目资助课题 摘　　要：报道了一种利用偏压恒流等离子辅助热丝化学气相沉积方法在硅基板上制备大面积均匀纳米金刚石薄膜的新工艺 ,在不同沉积条件下研究了纳米金刚石薄膜的成核和生长过程 ,并通过扫描电镜、拉曼光谱和表面粗糙度测试仪观察了纳米金刚石薄膜的结构特征。最后成功制备了直径 10 0mm、平均晶粒尺寸 10nm的光滑纳米金刚石薄膜。 关键词：制备热丝化学气相沉积纳米金刚石薄膜等离子辅助

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