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Al/Al_2O_3多层膜的表面分析与电性能的研究

查看全文 作  者:[1]薛钰芝;Martin A [2]Green 高影响力作者 机构地区:[1]大连铁道学院,辽宁大连116028;[2]澳大利亚新南威尔士大学光伏工程研究中心高影响力机构 出  处:《真空科学与技术》索引2002年第22卷第6期,共5页高影响力期刊 摘  要:用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2 O3 薄膜和多层膜。本文用X射线光电子能谱 (XPS)和紫外光电子能谱 (UPS)对样品进行价带能谱的检测与分析。获得的Al/Al2 O3 多层膜价带的XPS光电子能谱谱形基本相似 ;通过对Al/Al2 O3 三层膜在不同极角的UPS谱线的检测 ,得到其Ei (k∥i )关系曲线。此外 ,测定了低温下的I U特性 ,发现纳米量级的Al/Al2 O3 薄膜具有负阻特性。 关 键 词:Al/Al2O3多层膜 表面分析 电性能 氧化铝 电子结构
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